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活性氧化镁形成的基本原理
来源: | 作者:130haishi | 发布时间: 2018-08-13 | 6503 次浏览 | 分享到:
活性这个词,对于一些材料来说确实是起到了很重要的作用,因此,在这里我们来详细的了解一下关于活性氧化镁形成的基本原理。
活性这个词,对于一些材料来说确实是起到了很重要的作用,因此,在这里我们来详细的了解一下关于活性氧化镁形成的基本原理。
1.活性氧化镁的形成
菱镁矿石在窑炉的煅烧过程中,由于技术等原因造成矿石煅烧的温度不同,当温度达到400-600摄氏度时,其内部结构疏松,晶体间孔隙有点高,氧化镁呈现出了不错的活性。
2.当煅烧温度达到750-850摄氏度时,其晶体间孔隙率下降,达到镁水泥反应的范围之内,活性适中。当煅烧温度大于900-1000摄氏度时,形成 过火氧化镁,其活性很低甚至没有活性。在一定活性范围内,高活性者制品质量好,低活性者制品质量差,但欠火氧化镁并非如此,它的活性越高,反应越激烈,放 热越集中,制品质量反而越差,容易开裂且强度不高。
3.活性氧化镁也就是具有水化能力的氧化镁。
活性氧化镁在使用之后,就要做好防护措施,至于如何来存储氧化镁,这个我们在之前就有讲到过,不知道的小伙伴们可以去看看。